次世代半導体製造装置の生産を準備=ASML
半導体製造装置で欧州最大手のASMLホールディング(オランダ)は、半導体製造に使用する極端紫外線(EUV)露光装置「高NA EUV」を本社で展示し、装置の生産準備をしていることを明らかにした。「高NA EUV」の価格は3億5,000万ドル。ロイター通信が2月9日に伝えた。
「高NA EUV」はチップ
半導体
-
米ダイオーズ、バイポーラトランジスタ拡充
2025/12/23(火)
-
オンセミ、GaN製品群を拡充=GFと提携
北米 半導体2025/12/23(火)
-
長瀬産業と日通、インドで半導体材料の供給で連携
アジア・オセアニア 半導体2025/12/18(木)
-
インフィニオンとレノボ、自動運転技術で提携拡大
欧州 半導体2025/12/18(木)
-
ナビタス、GaN技術で印サイエントと提携
アジア・オセアニア 半導体2025/12/17(水)



